镀铬添加剂是指镀液中添加的不会明显改变溶液导电性而能显著改善镀层性能的少量物质，其对镀液及镀层质量起着至关重要的作用：一方面，它影响着镀液的稳定性、pH值、分散能力和覆盖能力；另一方面，它还影响镀层的外观、厚度、孔隙率、机械性能、耐蚀性和金相结构等。
镀层耐蚀性差，主要是由于镀层粗糙、表面有针孔裂纹等缺陷：当存在腐蚀介质时，镀铬层作为阴极，针孔处构成阳极，出现大阴极小阳极的腐蚀体系，加速镀层脱落，失去对基体的保护作用。可加入添加剂，促使形成光滑致密的镀层，消除表面裂纹；或获得非晶态镀层，以提高镀层的耐蚀性：此类添剂主要有：
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镀铬过程除了与其它镀种具有共同点外，还有其许多特殊的地方:①镀铬电解液的主要成分不是金属铬盐，而是具有强氧化性的铬酸。②电流效率很低，一般为13～16%，最高只能达到23%左右，因而在镀铬过程中氢气大量析出，带出有毒液雾，需要有良好的吸风装置和采用铬雾抑制剂。③溶液中必须添加少量外加的阴离子，如SO42-、F-、SiF62-等，还要在电解液中维持一定量的三价铬。④分散能力低，对于形状比较复杂的零件

影响镀铬后表面粗糙度的因素工件表面镀铬后的表面粗糙度与以下条件有直接的关系：1、镀前基体的表面粗糙度（基体表面粗糙度值越小镀后表面粗糙度值也小）；2、镀液温度的高低（温度高镀后表面粗糙度值就大）；3、电流密度的大小（电流密度越大镀后表面粗糙度值就大）；4、镀夜浓度（镀液浓度大镀后表面粗糙度值就大）；5、电镀时间（电镀时间越长镀后表面粗糙度值就大）。装饰镀铬镀前镀后表面粗糙度值差别不大，镀硬铬镀前镀

采用有机添加剂及卤素释放剂联合使用的镀铬液被称为“第三代镀铬溶液”，它们的共同特点是：阴极电流效率高达22%～27%，不含F一，不腐蚀基体；覆盖能力强，HV亦高达1000以上，既可用于镀硬铬，也可用于镀微裂纹铬，配合双层或三层镍工艺，用于汽车或摩托车减振器的电镀，已开始在机械行业获得应用。有机添加剂包括有机羧酸、有机磺酸及其盐类等。卤素释放剂是指碘酸钾、溴酸钾、碘化钾及溴化

20世纪80年代中期，开发了稀土镀铬添加剂，主要成分是稀土化合物，在中国已经获得了广泛的应用。在镀铬电解液中加入少量（1～4g/L）的稀土化合物，可使电解液中铬酐含量降低到150g/L，并且在较低温度（30～40℃）下就可以获得光泽度高的光亮镀铬层，阴极电流效率达到22%～26%，显著高于常规镀铬电解液。采用稀土镀铬添加剂可以节约大量能源和原材料，同时还大大减轻了铬酐对环境的污染。稀土镀铬工艺规范

三价铬电镀作为最重要、最直接有效的代六价铬电镀工艺，人们对其研究已有一百多年的历史，但由于电镀液的稳定性、铬镀层的质量等方面始终无法与铬酸镀铬相比，因此一直未能得到大规模的应用。大多数三价铬镀液均为络合物镀液，由主盐、络合剂、一定量的导电盐、缓冲剂及少量润湿剂构成。表4—33列出国内研究的三价铬镀液的组成及工艺条件。表4-33 三价铬镀液的组成及工艺条件1）镀液中各成分的作用①主盐可用

低浓度铬酐镀铬工艺是指镀铬液中铬酐含量在30～60g/L的镀铬工艺，铬酐使用量只有普通标准镀铬工艺的l/5～1/8，既减轻了铬酐对环境的污染，又节约了大量的原材料。低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件见表4—32。表4-32低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件采用低铬酐镀铬工艺可以获得装饰性铬镀层和硬铬镀层，其光泽性、硬度、结合力以及裂纹等方面，均能满足质量要求。但有时镀层表面会出现黄膜或彩色

铬镀层由于具有一系列优良的性能而得到广泛的应用，特别是随着机械制造业的发展， 铬镀层的用量越来越大。但是传统的镀铬工艺使用的电解液都由剧毒的铬酐配制。

乳白铬一般厚度在30～60μm，抗蚀性能良好，但硬度较低，光泽性差。镀乳白铬的工艺、镀前准备和镀后处理，基本与镀硬铬相同。其主要的不同点是：要求温度较高（65～75℃），阴极电流密度较低（25～30A/dm2）。

松孔铬镀层是具有一定疏密程度和深度网状沟纹的硬铬镀层，具有很好的储油能力。工作时，沟纹内储存的润滑油被挤出，溢流在工件表面上，由于毛细管作用，润滑油还可以沿着沟纹渗到整个工件表面，从而改善整个工件表面的润滑性能，降低摩擦系数，提高抗磨损性能。获得松孔铬的方法有机械、化学或电化学法。